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        真空鍍膜系統對溫度控的要求

        時間:2020-07-01 09:25 點擊次數:
                                                                                         真空鍍膜系統對溫度控的要求
         
            真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮,果如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射,結合差工效低光澤差?,F在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
        中頻設備必須加冷卻水,原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應,電荷會聚集在電導有表面積,這樣使電導發熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。
        (主要是圓柱靶)為什么也要用水冷卻?磁控濺射靶在發射時會產生高溫會使射槍變形,所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。
        從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運動規律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質原因。磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定。
        另外根據鍍膜機種類和加工產品不一樣,對冷水的要求也會不一樣,普通材料蒸發選用冷卻水塔水溫在30℃左右的就可以使用,如果涉及硬質件件溫度會要求在15-25℃。就必須要使用上冷水機這一塊
        還有一種情況低溫冷阱的應用是在輔助抽氣系統真空鍍膜的排氣系統采用的是由擴散泵、機械泵、羅茨泵、低溫冷阱、等部分組成低溫冷阱也是不可或缺的一部分
        1、如果鍍膜機用的是擴散泵的話,一般泵口回加一套冷阱,用于捕捉油分子。這種制冷不需要加熱回溫,可以用一般的冷凍機(-20°左右)或者深冷(-140°左右)。
        2、如果鍍膜機想提高抽速的話,一般要加帶回溫裝置的深冷,。抽氣時制冷,箱體放氣前回溫。
        3、還有一種情況卷繞鍍膜,薄膜鍍鋁的時候要制冷,到-15°左右,放氣前要回溫到室溫。
         
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